中国也有光刻机，只是差距确实很大！如果没有中途放弃过该有多好！

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对全世界任何一个国家来说，荷兰ASML都是众星捧月的那个“月亮”，他一马当先，其他人都难以望其项背。

日本人曾经研究过ASML，他们发现，ASML的一台EUV光刻机有超过10万个零件，其中90%的零部件都依赖外购。

有美国Cymer的光源（2013年被ASML收购），有德国蔡司的顶级镜头，有英特尔的技术分配，有瑞典的轴承，有法国的阀件，等等等等……

ASML作为集大成者，自己需要做的主要是设计和组装，不需要管工厂生产。

换句话说，ASML作为顶级光刻机的背后，是全世界多个国家的顶尖技术的通力配合，整个人类上百年科技的结晶，更是全球化的产物。

如果中国的光刻机击败了ASML，不是中国单挑赢了荷兰，而是中国单挑赢了全世界。

这难度堪比登天。



对于中国来说，哪怕一件事再难，我们也要做，这不是我们非要逼自己，是敌人非要逼我们。

中国如果不做自己的光刻机，类似买一台机器三年都到不了货的事情还会无数次地发生。

国内光刻机做得最好的，是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm的光刻机。

90nm的能力，已经足够驱动基础的国防和工业。

就算所有进口光刻机都瞬间停止工作，中国也不是没有芯片可用。

但，它能造出来的芯片，也就相当于2004年奔腾四处理器的水平。

这之间有十几年的差距。

我国入局半导体行业，起步其实并不算太晚，可惜的是中途放弃过。

1956年，我国第一只晶体三极管诞生。此时距离贝尔实验室研发出的世界第一支点接触三极管，过去了9年。

世界上第一只三极管

我国最早的光刻机GK-3型半自动光刻机，诞生于1977年。这是一台接触式光刻机。

GK-3

而美国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机，期间相差了二十几年。

1978年，1445所在GK-3的基础上开发了GK-4，把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米，自动化程度有所提高，但依旧是接触式光刻机。

同一年，GCA已经推出了真正现代意义的自动化步进式光刻机。

但之间的差距，开始逐渐减小：

1982年，科学院109厂的KHA-75-1光刻机，保守估计跟当时最先进的佳能相比，最多也就不到4年的差距。

1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机。这应该是中国第一台分步投影式光刻机。中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。

当时中国的半导体产业虽然没有超越当时世界最先水平，但是差距并不大。

以一个国家的实力，去追赶整个西方的速度！

然而，到了80年代末期，在整个大环境都是“造不如买”的思想下，中国光刻机一度被放弃了，自主研发停滞不前。

直到90年代末期，我们意识到了问题所在，重新把光刻机捡了起来，但已经落后了世界一大截了。

中国光刻机领域的代表企业，是前面说过的上海微电子。

2002年，上海微电子装备有限公司承担了“十五”光刻机攻关项目，中电科45所把此前从事分步投影光刻机的团队迁到了上海，参与这个项目。

2016年，上海微电子已经量产90、110和280三种光刻机，其中性能最好的是90nm光刻机。

荷兰的ASML，现在还牢牢占据高端市场，一骑绝尘；日本的尼康、佳能有终端市场，半死不活；上海微电子的光刻机，顶多占据了低端市场。在这三家的面前，根本不够看。

ASML曾放言称，就算给了一台机器，我们也很难逆研发出来整个机器。

这话不假。

这颗“人类工业皇冠上的明珠”要造出来，绝非一日之功。

制造业有制造业的规律，科研需要的是一步一个脚印的踏实，着急也没用，一口吃不成胖子。

但中国人是全世界最不信邪的。

纵使前途漫漫，纵使难于登天，但是中国的科研人员，却从未停下自己的脚步。

其实，对于一个发展已经极为成熟的行业来说，赢家通吃是普遍的规律，技术落后的第二名只能吃老大吃剩下的残羹冷炙，用爱发电维持不了多久。

在ASML绝对垄断的状态下，尼康和佳能现在基本是咸鱼两条，只能默默看着ASML一个人继续勇攀高峰，背后一堆跨国公司给他鞍前马后提供支持。

赶超的唯一希望，依然在中国身上。

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